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MINI PIV系统射流场实验结果介绍
选题目的:将MINI PIV系统应用到实际水槽高速射流试验 
地点:北京航空航天大学五系 流体所试验水槽
对象:具有流动控制功能的圆柱绕流场。
设备:北京立方天地科技MINI PIV系统,相机分辨率640×480@200Hz,8-10bit,电子快门曝光时间间隔5ms,1500mw半导体激光器(片光厚度小于1mm),镜头选用50mm镜头拍摄方式,拍摄区域约为80×60mm。
内容:使用北京立方天地科技的MINI PIV系统对实验对象进行了射流和圆柱绕流测量。
结果:实际试验中在得到整个流场结构的同时,还测量得到了高达0.5M/S的射流流场接过;同时还得到了传统PIV技术所无法得到的流场连续变化测量结果(时间采样频率200Hz)。
 
实验示意图 
     
       
 
射流场测试结果:
 
 原始图像(源文件为12位tiff图像):
 
              
计算结果:
     
        
     
          
参考文献:合成射流控制圆柱绕流结构的研究。冯立好、王建军、潘冲。全国第十二界分离流、旋涡和流动控制会议。2008.11.
 
 
 
 
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